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半导体废水处理设备

简要描述:半导体废水处理设备
伴随着电子设备主要用途日益扩张,半导体材料对在我国发展趋势具备关键的实际意义。半导体材料涉及到领域普遍,依据生产制造原材料及工艺流程的不一样,造成废水的废水特性也不一样,但都存有着排水量大,环境污染工作能力强的特性,严重威胁生态环境保护身心健康的与此同时也牵制其发展趋势。

  • 产品型号:CY-FS-001
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2021-08-02
  • 访  问  量:86

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详细介绍

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半导体废水处理设备

伴随着电子设备主要用途日益扩张,半导体材料对在我国发展趋势具备关键的实际意义。半导体材料涉及到领域普遍,依据生产制造原材料及工艺流程的不一样,造成废水的废水特性也不一样,但都存有着排水量大,环境污染工作能力强的特性,严重威胁生态环境保护身心健康的与此同时也牵制其发展趋势。

废水来源于及水体特

依据半导体材料生产制造废水污染物质的特性,可将半导体材料废水分成三类,关键来自生产过程中造成的含氟量废水、有机化学废水及金属离子废水,详解以下:

1、含氟量废水,废水关键来自于半导体材料生产制造工艺流程的离子注入段,因为应用了很多的氢氧酸、氟化铵等实验试剂,造成的环境污染如氯化物、氨氨等浓度较高废水一般呈强酸碱性;

2、有机化学废水,其环境污染化学物质主要是一些基本污染物质,生产制造浓度跟生产工艺流程及实际操作管理能力关联很大,COD一般在200~3000mg/L;金属离子废水,半导体材料废水中的金属离子类型诸多,关键如铜、镍、锡、铅、银等,浓度一般在几十mg/L。

处理难度分析

高浓度的含氟量废水解决难度系数大,一般的化学沉淀法无法完全除去水里的氟离子,在排出规定高的情况下,解决其选用多种多样组成处理工艺。

半导体材料有机化学废水浓度不容易太高,但不一样公司的水体转变大,其渗水水体需依据检验检测結果来明确。

对干不一样类型的高浓度金属离子废水,应当分离搜集开展解决,若废水中含金属离子类型较多,生产流程会较长。

半导体废水处理设备工艺

含氟量废水一般选用化学沉淀法,加药钙质与水里的氟离子产生CaF2,再多方面混释剂輔助就可以除去水里的氟离子,出水出水规定高时,可与生物化学法吸咐法等协同应用。

有机化学废水一般选用经济发展高效率的生物化学法,如独立的好氧法或与氧气不足法厌氧发酵法组成加工工艺对干废水中COD高锰酸盐指数总氧等堂规污边物除去实际效果十分丰厚。

金属离子废水则需对于不一样废水不一样类型开展挑选,常见的有化学沉淀法、吸咐法、离子交换等。

半导体业生产制造用水量其多,自来水规定不高,一般提议将废水做回收利用解决,以节省产品成本。实际由此可见我局零排放及工业污水处理模块。

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